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打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺

时间:2020-05-23 17:52:44  

  作为半导体卡脖子的技术之一,很多人只知道光刻机,却不知道光刻胶的重要性,这个市场也是被日本及美国极速分3d垄断,TOP5厂商占了全球85%的份额。

  国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中,能做到G线(436nm)、I线(365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻胶还是靠进口,EUV光刻胶目前还没有极速分3d能生产,基本上都控制在日本极速分3d手中。

  不过EUV光刻胶也不是急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更加重要,目前国内有多家极速分3d正在攻关中,这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。

  今天,南大光电在互动平台表示,极速分3d的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。

  根据南大光电极速分3d之前的消息,极速分3d于2017年开始研发“193nm光刻胶项目”,已获得国家“02专项”的相关项目立项,极速分3d计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,产品将满足集成电路行业需求标准。

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